वैक्यूम फ्लास्क कॉपर प्लेटिंग उपकरण, कॉपर स्पटरिंग डिपोजिशन सिस्टम, टीआईएन और टीवाईसी वैक्यूम प्लेटिंग
1 सेट
MOQ
Negotiable
कीमत
Vacuum Flask Copper Plating Equipment,  Copper Sputtering Deposition System, TiN and TiC Vacuum Plating
विशेषताएं गेलरी उत्पाद विवरण एक बोली का अनुरोध
विशेषताएं
मूलभूत जानकारी
उत्पत्ति के प्लेस: चीन में बना
ब्रांड नाम: ROYAL
प्रमाणन: CE
मॉडल संख्या: RTAC-एसपी
हाई लाइट:

silver plating machine

,

vacuum plating equipment

भुगतान & नौवहन नियमों
पैकेजिंग विवरण: निर्यात मानक, नए मामलों / डिब्बों में पैक किया जाना है, जो लंबी दूरी के महासागर / वायु और अंतर्देशीय
प्रसव के समय: 12 सप्ताह
भुगतान शर्तें: एल / सी, डी / ए, डी / पी, टी / टी
आपूर्ति की क्षमता: प्रति माह 10 समूह
निर्दिष्टीकरण
वैक्यूम प्रौद्योगिकी: कैथोडिक मल्टी आर्क चढ़ाना, PVD चाप बयान, डीसी द्वारा मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग
डिपोजिट सोर्सेज: सिलेंडर चाप या परिपत्र चाप कैथोड, डीसी स्पटर स्रोत
कोटिंग फिल्म: धातु फिल्म चढ़ाना, टाइटेनियम नाइट्राइड, टाइटेनियम कार्बाइड, जिरकोनियम नाइट्राइड, क्रोमियम नाइट्राइड,
आवेदन: पाइपिंग और प्लंबिंग को पानी देना; बाथरूम फिटिंग और नल वाल्व,
कारखाने की स्थिति: शंघाई शहर, चीन
कारखाने की स्थिति: शंघाई शहर, चीन
दुनिया भर में सेवा: Poland - Europe; पोलैंड - यूरोप; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India,
प्रशिक्षण सेवा: मशीन संचालन, रखरखाव, कोटिंग प्रक्रिया व्यंजनों, कार्यक्रम
गारंटी: सीमित वारंटी 1 वर्ष मुफ्त में, मशीन के लिए संपूर्ण जीवन
ओईएम और ओडीएम: उपलब्ध है, हम दर्जी डिजाइन और निर्माण का समर्थन करते हैं
उत्पाद विवरण
वैक्यूम फ्लास्क कॉपर प्लेटिंग उपकरण, कॉपर स्पटरिंग डिपोजिशन सिस्टम, टीआईएन और टीवाईसी वैक्यूम प्लेटिंग

मोटी तांबे की फिल्म आंतरिक और बाहरी बोतलों के बीच थर्मल आइसुलेशन के लिए है। विभिन्न रंगों को उत्पन्न करने के लिए पीवीडी वैक्यूम कोटिंग तकनीक के साथ सतह में: काला, इंद्रधनुष, सोना, तांबा, भूरा आदि।

स्पटर डिप्रेशन

स्पटरिंग एक धातु निक्षेपण प्रक्रिया है जहां लक्ष्य सामग्री को गर्मी का उपयोग करके वाष्पीकृत नहीं किया जाता है, लेकिन बम विस्फोट के कण की टक्कर से इसके धातु के परमाणु लक्ष्य से भौतिक रूप से विस्थापित हो जाते हैं। स्पटरिंग चैंबर में लक्ष्य से भाग की दूरी वैक्यूम बयान की तुलना में बहुत कम है। स्पटरिंग भी बहुत अधिक वैक्यूम के तहत किया जाता है। स्पटरिंग स्रोत स्वयं तत्वों, मिश्र धातुओं, मिश्रण, या यौगिकों से बना हो सकता है। धातु चित्रण का यह रूप आमतौर पर सेमीकंडक्टर निर्माण में, वास्तुशिल्प ग्लास, चिंतनशील कोटिंग्स, कॉम्पैक्ट डिस्क सीडी और सजावटी कोटिंग्स पर उपयोग किया जाता है।

आर्क वाष्प जमाव

कैथोडिक आर्क डिपोजिशन या आर्क-पीवीडी एक भौतिक वाष्प जमाव तकनीक है जिसमें कैथोड लक्ष्य से सामग्री को वाष्पित करने के लिए एक इलेक्ट्रिक आर्क का उपयोग किया जाता है। वाष्पीकृत सामग्री फिर एक सब्सट्रेट पर संघनित होती है, जिससे एक पतली फिल्म बनती है। तकनीक का उपयोग धातु, सिरेमिक और मिश्रित फिल्मों को जमा करने के लिए किया जा सकता है। चाप वाष्पीकरण प्रक्रिया एक कैथोड की सतह पर एक उच्च धारा, कम वोल्टेज चाप के प्रहार से शुरू होती है (लक्ष्य के रूप में जाना जाता है) जो एक छोटे (आमतौर पर कुछ माइक्रोमीटर चौड़ा), अत्यधिक ऊर्जावान उत्सर्जक क्षेत्र को कैथोड के रूप में जन्म देता है। स्पॉट। कैथोड स्पॉट पर स्थानीयकृत तापमान 15000 ℃ (लगभग 15000 ℃) है, जिसके परिणामस्वरूप वाष्पीकृत कैथोड सामग्री का उच्च वाष्पीकरण (10 किमी / सेकंड) जेट होता है, जिससे कैथोड सतह पर एक गड्ढा पीछे रह जाता है।

आरटीएसी-एसपी श्रृंखला पीवीडी वैक्यूम मेटललाइजिंग उपकरण डिजाइन और गढ़ी गई रॉयल तकनीक हैं

धातु मिश्र धातुओं, पीतल, ज़माक (जस्ता मिश्र धातु), प्लास्टिक, इलेक्ट्रॉनिक्स, पाइपिंग और प्लंबिंग, प्लम्बर फिटिंग, वॉटरिंग सिस्टम वाल्व और कैप के लिए लोकप्रिय उपयोग किया जाता है; चिकित्सा और औद्योगिक वाल्व आदि। प्रक्रिया का उद्देश्य मुख्य रूप से क्रोमियम इलेक्ट्रोप्लेटिंग को बदलना है जो मानव और पर्यावरण के लिए खतरनाक है।

उच्च वैक्यूम मेटलाइज़िंग सिस्टम कॉन्फ़िगरेशन और सुविधाएँ:

नमूना RTAC1008-SPMF RTAC1250-SPMF RTAC1615-SPMF
प्रभावी चैम्बर आकार Φ1000 x H800 मिमी H1250 x H1250 मिमी H1600 x H1500 मिमी
डिपोजिट सोर्सेज

सिलेंडर आर्क (विकल्प के लिए स्टीयरिंग परिपत्र चाप) + एमएफ स्पटरिंग कैथोड +

रैखिक आयन स्रोत

वैक्यूम पंपिंग सिस्टम (लेयबॉल्ड पंप्स + टर्बो आणविक पंप)

SV300B - 1 सेट (300 मी³ / घंटा) SV300B - 1 सेट (300 मी³ / घंटा) SV300B - 2 सेट (300 मी³ / घंटा)

WAU1001-1set

(1000m³ / घंटा)

WAU1001-1set

(1000m³ / घंटा)

WAU2001-1set

(1000m³ / घंटा)

D60T- 1 सेट (60m³ / hr) D60T- 1 सेट (60m³ / hr) D60T- 1 सेट (60m³ / hr)

टर्बो आणविक पंप:

2 सेट (3500L / S)

टर्बो आणविक पंप:

2 सेट (3500L / S)

टर्बो आणविक पंप:

3 सेट (3500L / S)

स्पटरिंग पावर सप्लाई 1 * 24KW (एमएफ) 2 * 36KW (एमएफ) 3 * 36KW (एमएफ)
आर्क पावर सप्लाई 6 * 5KW 7 * 5KW 8 * 5KW
पूर्वाग्रह बिजली की आपूर्ति 1 * 24KW 1 * 36KW 1 * 36KW
ग्रहों की छड़ें 6/8 12/16 20
हीटर 6 * 2.5KW 8 * 2.5KW 9 * 2.5KW
परम शून्य 9.0 * 10-4Pa (खाली, साफ, कमरे का तापमान) 9.0 * 10-4Pa (खाली, साफ, कमरे का तापमान) 9.0 * 10-4Pa (खाली, साफ, कमरे का तापमान)
चक्र समय (पंप पर निर्भर करता है) 40 '~ 50' सब्सट्रेट सामग्री और कोटिंग व्यंजनों पर निर्भर करता है
काम करने की शक्ति की आवश्यकता 3 चरण 4 लाइनें, AC380V, 50HZ, 35KW 3 चरण 4 लाइनें, AC380V, 50HZ, 120KW 3 चरण 4 लाइनें, AC380V, 50HZ, 150KW
ठंडा पानी हाँ, औद्योगिक पानी चिलर
प्रसंस्करण गैस (99.99%) 4 तरीके 4 तरीके 4 तरीके
पदचिह्न (मिमी) 2000 * 2000 * 2300 4000 * 4500 * 3200 5500 * 5000 * 3600
कुल वजन (KGS) 4500 7000 9000
कुल बिजली की खपत (लगभग) 50KW 110KW 170KW
वास्तविक बिजली की खपत (लगभग) 30KW 60KW 80kW

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