टूल्स पर हार्ड कोटिंग्स

प्लाज्मा प्रौद्योगिकी पर आधारित प्रतिक्रियाशील भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) प्रक्रियाओं द्वारा गठित कठोर कोटिंग्स का व्यापक रूप से उपकरण उद्योगों में उपयोग किया जा रहा है।

कठोर कोटिंग्स के आयन चढ़ाना के लिए सबसे आम वाष्पीकरण स्रोत असंतुलित-मैग्नेट्रोन--स्पटरिंग स्रोत, और कैथोडिक-आर्क-वाष्पीकरण स्रोत हैं।जमाव के दौरान बमबारी आमतौर पर सब्सट्रेट पर एक नकारात्मक पूर्वाग्रह (-200 से -300 वोल्ट) लगाने और प्लाज्मा से सतह पर सकारात्मक आयनों को तेज करने के द्वारा प्राप्त की जाती है।जमा सामग्री को घनीभूत करने के लिए परमाणुओं को जमा करने के लिए बमबारी आयनों का एक उच्च अनुपात महत्वपूर्ण है।असंतुलित-चुंबकीय-स्पटरिंग स्रोत में, कुछ थूक वाले परमाणु आयनित होते हैं;लेकिन कैथोडिक चाप स्रोतों में वाष्पीकृत परमाणुओं का एक उच्च प्रतिशत आयनित होता है।क्योंकि इन "फिल्म आयनों" में गैस आयनों की तुलना में अधिक द्रव्यमान होता है, वे सतहों को स्पटर करने और "परमाणु पीनिंग" द्वारा फिल्मों को घनीभूत करने में सक्षम होते हैं।

औद्योगिक उपकरण कोटिंग्स आमतौर पर मोटाई में 1.5 से 4 माइक्रोन होती हैं।

RTAC-1214 विशिष्टता: