मेसेज भेजें

आईटीओ फिल्म मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग मशीन

1 सेट
MOQ
negotiable
कीमत
आईटीओ फिल्म मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग मशीन
विशेषताएं गेलरी उत्पाद विवरण एक बोली का अनुरोध
विशेषताएं
निर्दिष्टीकरण
कोटिंग प्रौद्योगिकी: डीसी और एमएफ मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग
उपकरण सुविधाएँ: मजबूत संरचना, कॉम्पैक्ट पदचिह्न डिजाइन, उच्च दक्षता और सटीक संचालन नियंत्रण
कोटिंग सुविधा: हाई रिफ्लेक्टिव, बेहतरीन करोश़न और वियर रेज़िस्टेंस
संचालन नियंत्रण: सहज पीएलसी और आईपीसी नियंत्रण
सेवा और प्रशिक्षण: उपलब्ध, यूएसए इंजीनियर और तकनीशियनों से
नाम: मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग मशीन
कारखाने की स्थिति: शंघाई शहर, चीन
विश्वव्यापी सेवा: Poland - Europe; पोलैंड - यूरोप; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India,
प्रशिक्षण सेवा: मशीन संचालन, रखरखाव, कोटिंग प्रक्रिया व्यंजनों, कार्यक्रम
वारंटी: सीमित वारंटी 1 वर्ष मुफ्त में, मशीन के लिए पूरा जीवन
ओईएम और ओडीएम: उपलब्ध है, हम दर्जी के डिजाइन और निर्माण का समर्थन करते हैं
हाई लाइट:

magnetron sputtering equipment

,

vacuum deposition equipment

मूलभूत जानकारी
उत्पत्ति के प्लेस: चीन में बना
ब्रांड नाम: ROYAL
प्रमाणन: CE certification
मॉडल संख्या: RTSP800
भुगतान & नौवहन नियमों
पैकेजिंग विवरण: लंबी दूरी की महासागर / वायु और अंतर्देशीय परिवहन के लिए उपयुक्त नए मानक / डिब्बों में पैक किया जाने
प्रसव के समय: 12 सप्ताह
भुगतान शर्तें: एल / सी, डी / ए, डी / पी, टी / टी
आपूर्ति की क्षमता: प्रति माह 6 सेट
उत्पाद विवरण

 

 

आईटीओ फिल्म कोटिंग मशीन, बाथ प्रकार आईटीओ फिल्म मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटर / ग्लास आईटीओ डिपोजिशन मशीन

 

 

आईटीओ फिल्म कोटिंग मशीनमानक अनुप्रयोग: पीईटी, कांच, आईटीओ कोटिंग परतों को उत्पन्न करने के लिए।

 

मशीन का निर्माण समय: 2012, चीन।

अनुप्रयोग: एआर फिल्म, आईटीओ फिल्म।

 

आईटीओ फिल्म मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग मशीन 0

 
आईटीओ फिल्म कोटिंग मशीनपीवीडी कोटिंग आंकड़े

कार्य टुकड़े:

आकारः 300mm*100mm

पीईटी की मोटाईः 0.175mm+/-0.05mm

*आईटीओ फिल्म की मोटाई:185 एनएम+/-5 एनएम

शीट प्रतिरोधः 6~8ohm/sq

 

आईटीओ फिल्म कोटिंग मशीनतकनीकी विन्यास:

1) डीसी स्पटरिंग सोर्सः क्यू, अल, आईटीओ

2) एमएफ स्पटरिंग स्रोत

3) टर्बो आणविक पंप + बैकपंप समूह

4) आईटीओ फिल्म की गुणवत्ता में सुधार के लिए उच्च तीव्रता वाले चुंबकीय क्षेत्र, लक्ष्य उपयोग दर > 30%

5) Cu, Al, Si का लक्ष्य उपयोग दर > 35%

6) जमाव दरः 30nm m/min ~ 40nm m/min

7) स्पटरिंग एकरूपता क्षेत्रः 350 मिमी

 

 

कृपया अधिक विवरण के लिए हमसे संपर्क करें, रॉयल टेक्नोलॉजी आपको पूर्ण कोटिंग समाधान प्रदान करने के लिए सम्मानित है।

अनुशंसित उत्पाद
हम से संपर्क में रहें
फैक्स : 86-21-67740022
शेष वर्ण(20/3000)