डीपीसी सिरेमिक चिप्स पर सीधे लेपित तांबा- RTSP1200-डीपीसी

सिरेमिक डाईलेक्ट्रिक फिल्टर पर पीवीडी डायरेक्ट प्लेटिंग सिल्वर 5जी बेस स्टेशन और इलेक्ट्रॉनिक उद्योगों के लिए अन्य अर्धचालकों के साथ लागू एक उन्नत कोटिंग तकनीक है।एक विशिष्ट अनुप्रयोग सिरेमिक रेडिएटिंग सब्सट्रेट हैपीवीडी वैक्यूम स्पटरिंग तकनीक द्वारा एल्यूमीनियम ऑक्साइड (Al2O3), AlN सब्सट्रेट पर चांदी/ तांबा प्रवाहकीय फिल्म जमा,पारंपरिक विनिर्माण विधियों की तुलना में सबसे ऊपर एक बड़ा लाभ है: डीबीसी एलटीसीसी एचटीसीसी, जिसकी उत्पादन लागत बहुत कम है। Royal Technology’s team collaborated with our customer to develop the PVD Silver Plating process successfully applying  with  sputtering technology which can replace conventional liquid silver brushing process.

विशिष्ट अनुप्रयोग

• HBLED
• सौर एकाग्रकर्ता कोशिकाओं के लिए सब्सट्रेट
• मोटर नियंत्रण सहित पावर सेमीकंडक्टर पैकेजिंग
• हाइब्रिड और इलेक्ट्रिक ऑटोमोबाइल पावर मैनेजमेंट इलेक्ट्रॉनिक्स
• आरएफ के लिए पैकेज
• माइक्रोवेव उपकरण
• केरामिक डाइलेक्ट्रिक फिल्टर5जी बेस स्टेशन

केवल कुछ नाम रखने के लिए, अधिक आवेदन के लिए, कृपया रॉयल टेक से संपर्क करें।

तकनीकी लाभ

बड़ी क्षमता
लचीले मॉड्यूल डिजाइन
सटीक विनिर्माण

RTAS1215 बैच स्पटरिंग प्रणाली उन्नत संस्करण है, नवीनतम प्रणाली में कई फायदे हैंः

अधिक कुशल प्रक्रिया
1. दो तरफा कोटिंग टर्नओवर फिक्स्चर डिजाइन द्वारा उपलब्ध है
2. कई स्रोतों के लिए 8 मानक समतल कैथोड फ्लैंग्स तक
3. प्रति चक्र 2.2 m2 तक की बड़ी क्षमता वाले सिरेमिक चिप्स
4. पूर्ण स्वचालन, पीएलसी + टच स्क्रीन, ONE-Touch नियंत्रण प्रणाली

कम उत्पादन लागत
1. 2 सेट चुंबकीय निलंबन आणविक पंपों से लैस, तेजी से शुरू समय, निः शुल्क रखरखाव
2अधिकतम ताप शक्ति
3अधिकतम स्थान के उपयोग के लिए कक्ष का अष्टकोणीय आकार, कोटिंग्स की तेजी से जमाव के लिए 8 आर्क स्रोतों और 4 स्पटरिंग कैथोड तक

तकनीकी विनिर्देश

मॉडल: RTSP1200-DPC

कक्ष की ऊंचाई (मिमी): 1500

कक्ष का व्यास (मिमी): φ1200

स्पटरिंग कैथोड माउंटिंग फ्लैंजः 4

आयन स्रोत माउंटिंग फ्लैंज: 1

आर्क कैथोड माउंटिंग फ्लैंज: 8

उपग्रह (मिमी): 16 x Φ150

पल्स्ड बायस पावर (केडब्ल्यू): 36

स्पटरिंग पावर (KW): DC36 + MF36

आर्क पावर ((KW): 8 x 5

आयन स्रोत शक्ति (KW): 5

हीटिंग पावर (KW): 36

प्रभावी कोटिंग ऊंचाई (मिमी): 1020

चुंबकीय निलंबन आणविक पंपः 2 x 3300 L/S

जड़ पंपः 1 x 1000m3/h

रोटरी वैन पंपः 1 x 300m3/h

रखरखाव पंपः 1 x 60m3/h

क्षमताः 2.2 m2

स्थापना क्षेत्र (L x W x H) मिमीः 4200*6000*3500

इंसाइट

निर्मित समयः 2016 से

मात्राः 3 सेट

स्थानः चीन

बाजार की भारी मांग की तुलना में, बैच प्रणाली की उत्पादकता कम है;हम स्वचालित रूप से रोबोट लोडिंग/अनलोडिंग उपकरणों के साथ इन-लाइन स्पटरिंग प्रणाली (जारी स्पटरिंग जमा लाइन) विकसित करने के लिए समर्पित किया गया हैइस प्रणाली में रुचि रखने वाले किसी भी व्यक्ति को अधिक विवरण के लिए कृपया हमारे तकनीशियन से संपर्क करें।