डीएलसी-सी टा कार्बन टैंटलम स्पटरिंग डिपोजिशन सिस्टम

मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग का उपयोग व्यापक रूप से टैंटलम, टाइटेनियम, वोल्फ़ेन जैसे अग्निरोधक धातुओं को जमा करने के लिए किया जाता है,निओबियम, जिसके लिए बहुत उच्च तापमान पर जमाव की आवश्यकता होती है, और कीमती धातुएंः सोना और चांदी और जिसका उपयोग कम पिघलने बिंदु धातुओं जैसे तांबा, एल्यूमीनियम, निकल, क्रोम आदि के जमाव के लिए भी किया जाता है।

इलेक्ट्रॉनिक में टैंटलम का सबसे अधिक प्रयोग किया जाता है।उद्योगक्षरण के प्रति अच्छा प्रतिरोध के कारण एक सुरक्षात्मक कोटिंग के रूप में.

स्पटर टैंटलम पतली फिल्म के अनुप्रयोगः
1माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग के रूप में फिल्मों को प्रतिक्रियाशील रूप से स्पटर किया जा सकता है और इस प्रकार प्रतिरोध की प्रतिरोधकता और तापमान गुणांक को नियंत्रित किया जा सकता है;

2. उच्च जैव संगतता गुण के लिए शरीर प्रत्यारोपण जैसे चिकित्सा उपकरण;
3. क्षरण प्रतिरोधी भागों पर कोटिंग, जैसे कि थर्मोवेल, वाल्व निकायों और फास्टनरों पर;
4. Sputtered टैंटलम भी एक प्रभावी संक्षारण प्रतिरोध बाधा के रूप में इस्तेमाल किया जा सकता है यदि कोटिंग निरंतर है, दोषपूर्ण है और सब्सट्रेट के लिए चिपके हुए है.

तकनीकी लाभ

1. एक मानकीकृत ट्रॉली लागू किया जाता है जो जमाव कक्ष में सब्सट्रेट धारकों और काम के टुकड़ों को आसान और सुरक्षित लोडिंग/अनलोडिंग की अनुमति देता है
2. प्रणाली गलत संचालन या असुरक्षित प्रथाओं को रोकने के लिए सुरक्षा interlocked है
3. सब्सट्रेट हीटर प्रदान किए जाते हैं जो कक्ष के केंद्र में माउंट किए जाते हैं, उच्च सटीकता के लिए पीआईडी नियंत्रित थर्मोकपल, संघनक फिल्म के आसंजन को बढ़ाने के लिए
4. चैंबर से जुड़े गेट वाल्व के माध्यम से चुंबकीय रूप से निलंबन आणविक पंप के साथ मजबूत वैक्यूम पंप विन्यास; लेयबोल्ड के जड़ों पंप और दो चरण के घूर्णी पाली पंप, यांत्रिक पंप के साथ समर्थित।
5. उच्च ऊर्जा वाले आयनित प्लाज्मा स्रोत को इस प्रणाली के साथ लागू किया जाता है ताकि एकरूपता और घनत्व सुनिश्चित हो सके।
   
   
   

रॉयल टेक्नोलॉजी की मानकीकृत टैंटलम स्पटरिंग जमा प्रणाली: RTSP1000

इंसाइट:

निर्माण का समयः 2018

स्थानः चीन

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