मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग का व्यापक रूप से टैंटलम, टाइटेनियम, टंगस्टन जैसी दुर्दम्य धातुओं को जमा करने के लिए उपयोग किया जाता है, नाइओबियम, जिसे निक्षेपण के बहुत उच्च तापमान की आवश्यकता होगीऔर कीमती धातुएँ: सोना और चाँदी और जिसका उपयोग कम गलनांक वाली धातुओं जैसे तांबा, एल्युमिनियम, निकल, क्रोम आदि के जमाव के लिए भी किया जाता है।
इलेक्ट्रॉनिक में टैंटलम का सबसे अधिक उपयोग किया जाता है उद्योग कटाव के अच्छे प्रतिरोध के कारण एक सुरक्षात्मक कोटिंग के रूप में.
स्पटरड टैंटलम पतली फिल्म के अनुप्रयोग:
1. माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक उद्योग के रूप में फिल्मों को प्रतिक्रियाशील रूप से स्पटर किया जा सकता है और इस प्रकार प्रतिरोधकता और प्रतिरोध के तापमान गुणांक को नियंत्रित किया जा सकता है;
तकनीकी लाभ
रॉयल टेक्नोलॉजी का मानकीकृत टैंटलम स्पटरिंग डिपोजिशन सिस्टम: RTSP1000
मुख्य विन्यास | |
नमूना | आरटीएसपी1000 |
प्रौद्योगिकी |
स्पंदित डीसी मैग्नेट्रोन स्पटरिंग कैथोडिक चाप चढ़ाना (विकल्प के लिए, कोटिंग प्रक्रिया द्वारा निर्धारित) |
कक्ष सामग्री | स्टेनलेस स्टील (S304) |
कक्ष आकार | 1000 * 1600 मिमी (एच) |
कक्ष प्रकार | डी आकार, बेलनाकार कक्ष |
रोटेशन रैक और जिग सिस्टम | सैटेलाइट ड्राइविंग या सेंट्रल ड्राइविंग सिस्टम |
बिजली की आपूर्ति |
डीसी स्पटरिंग बिजली की आपूर्ति: 2 ~ 4 सेट आयन स्रोत: 1 सेट |
जमा सामग्री | टा, Ti/Cr/TiAl, Au, Ag, Cu आदि। |
जमा करने का स्रोत | प्लानर स्पटरिंग कैथोड + सर्कुलर आर्क कैथोड |
नियंत्रण | पीएलसी (प्रोग्राम करने योग्य तर्क नियंत्रक) + आईपीसी (मैनुअल+ ऑटो+ सेमी-ऑटो ऑपरेशन मॉडल) |
पंप प्रणाली | रोटरी फलक पंप: SV300B - 1 सेट (लेबॉल्ड) |
रूट्स पंप: WAU1001 - 1 सेट (लेबॉल्ड) | |
होल्डिंग पंप: D60C - 1 सेट (लेबॉल्ड) | |
चुंबकीय निलंबन आणविक पंप: MAG2200 - 2 सेट (लेबॉल्ड) |
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गैस मास फ्लो कंट्रोलर | 2 चैनल: Ar और N2 |
वैक्यूम गेज | इंफिकॉन या लेबॉल्ड |
सुरक्षा तंत्र | ऑपरेटरों और उपकरणों की सुरक्षा के लिए कई सुरक्षा इंटरलॉक |
गरम करना | हीटर: 20 किलोवाट।मैक्स।अस्थायी: 450 ℃ |
ठंडा | औद्योगिक चिलर (ठंडा पानी) |
पावर मैक्स। | 100 किलोवाट (लगभग) |
औसत बिजली की खपत | 45 किलोवाट (लगभग) |
कुल वजन | टी (लगभग) |
फुट प्रिंट | (एल*डब्ल्यू*एच) 4000*4000 *3600 मिमी |
विद्युत शक्ति |
एसी 380V / 3 चरण / 50HZ / 5 लाइन |
इनसाइट:
निर्मित समय: 2018
स्थान: चीन
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