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उत्पादों का विवरण

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मैग्नेट्रोन स्पटरिंग कोटिंग मशीन
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आईटीओ फिल्म मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग मशीन

आईटीओ फिल्म मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग मशीन

ब्रांड नाम: ROYAL
मॉडल संख्या: RTSP800
एमओक्यू: 1 सेट
कीमत: विनिमय योग्य
भुगतान की शर्तें: एल / सी, डी / ए, डी / पी, टी / टी
आपूर्ति करने की क्षमता: प्रति माह 6 सेट
विस्तृत जानकारी
उत्पत्ति के प्लेस:
चीन में बना
प्रमाणन:
CE certification
कोटिंग प्रौद्योगिकी:
डीसी और एमएफ मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग
उपकरण सुविधाएँ:
मजबूत संरचना, कॉम्पैक्ट पदचिह्न डिजाइन, उच्च दक्षता और सटीक संचालन नियंत्रण
कोटिंग सुविधा:
हाई रिफ्लेक्टिव, बेहतरीन करोश़न और वियर रेज़िस्टेंस
संचालन नियंत्रण:
सहज पीएलसी और आईपीसी नियंत्रण
सेवा और प्रशिक्षण:
उपलब्ध, यूएसए इंजीनियर और तकनीशियनों से
नाम:
मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग मशीन
कारखाने की स्थिति:
शंघाई शहर, चीन
विश्वव्यापी सेवा:
Poland - Europe; पोलैंड - यूरोप; Iran- West Asia & Middle East, Turkey, India,
प्रशिक्षण सेवा:
मशीन संचालन, रखरखाव, कोटिंग प्रक्रिया व्यंजनों, कार्यक्रम
वारंटी:
सीमित वारंटी 1 वर्ष मुफ्त में, मशीन के लिए पूरा जीवन
ओईएम और ओडीएम:
उपलब्ध है, हम दर्जी के डिजाइन और निर्माण का समर्थन करते हैं
पैकेजिंग विवरण:
लंबी दूरी की महासागर / वायु और अंतर्देशीय परिवहन के लिए उपयुक्त नए मानक / डिब्बों में पैक किया जाने
आपूर्ति की क्षमता:
प्रति माह 6 सेट
प्रमुखता देना:

magnetron sputtering equipment

,

vacuum deposition equipment

उत्पाद का वर्णन

 

 

आईटीओ फिल्म कोटिंग मशीन, बाथ प्रकार आईटीओ फिल्म मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटर / ग्लास आईटीओ डिपोजिशन मशीन

 

 

आईटीओ फिल्म कोटिंग मशीनमानक अनुप्रयोग: पीईटी, कांच, आईटीओ कोटिंग परतों को उत्पन्न करने के लिए।

 

मशीन का निर्माण समय: 2012, चीन।

अनुप्रयोग: एआर फिल्म, आईटीओ फिल्म।

 

आईटीओ फिल्म मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग मशीन 0

 
आईटीओ फिल्म कोटिंग मशीनपीवीडी कोटिंग आंकड़े

कार्य टुकड़े:

आकारः 300mm*100mm

पीईटी की मोटाईः 0.175mm+/-0.05mm

*आईटीओ फिल्म की मोटाई:185 एनएम+/-5 एनएम

शीट प्रतिरोधः 6~8ohm/sq

 

आईटीओ फिल्म कोटिंग मशीनतकनीकी विन्यास:

1) डीसी स्पटरिंग सोर्सः क्यू, अल, आईटीओ

2) एमएफ स्पटरिंग स्रोत

3) टर्बो आणविक पंप + बैकपंप समूह

4) आईटीओ फिल्म की गुणवत्ता में सुधार के लिए उच्च तीव्रता वाले चुंबकीय क्षेत्र, लक्ष्य उपयोग दर > 30%

5) Cu, Al, Si का लक्ष्य उपयोग दर > 35%

6) जमाव दरः 30nm m/min ~ 40nm m/min

7) स्पटरिंग एकरूपता क्षेत्रः 350 मिमी

 

 

कृपया अधिक विवरण के लिए हमसे संपर्क करें, रॉयल टेक्नोलॉजी आपको पूर्ण कोटिंग समाधान प्रदान करने के लिए सम्मानित है।

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