टीएनएन गोल्ड मेटल मिड-फ्रीक्वेंसी मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग मशीन / एमएफ स्पटरिंग सिस्टम



मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग वैक्यूम कोटिंग PVD आयन चढ़ाना सतह उपचार मेन्थोड का एक प्रकार है। इसका उपयोग कई प्रकार की सामग्रियों: धातु, कांच, सिरेमिक, प्लास्टिक, धातु मिश्र धातु पर फिल्मों के संचालन या गैर-संचालन के उत्पादन के लिए किया जा सकता है। स्पटरिंग डिपोजिशन अवधारणा: कोटिंग सामग्री (लक्ष्य, जिसे कैथोड भी कहा जाता है) और काम के टुकड़े (सब्सट्रेट, जिसे एनोड भी कहा जाता है) को वैक्यूम चैम्बर में रखा जाता है और दबाव कम किया जाता है। स्पैटरिंग को एक वोल्टेज विभेदक के तहत लक्ष्य रखकर और आर्गन गैस को शुरू करने से शुरू किया जाता है जो आर्गन आयन (चमक निर्वहन) बनाते हैं। आर्गन आयन प्रक्रिया लक्ष्य की ओर गति करते हैं और लक्ष्य परमाणुओं को विस्थापित करते हैं। ये स्पटरिंग परमाणु तब सब्सट्रेट पर संघनित होते हैं और बहुत पतली और उच्च एकरूपता परत बनाते हैं। विभिन्न रंगों को कोटिंग प्रक्रिया के दौरान प्रतिक्रियाशील गैसों जैसे, नाइट्रोजन, ऑक्सीजेन या एसिटिलीन को हेट स्पैटर गैस में डालकर प्राप्त किया जा सकता है।

मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग मॉडल: डीसी स्पटरिंग, एमएफ स्पटरिंग, आरएफ स्पटरिंग

एमएफ स्पटरिंग क्या है?

डीसी और आरएफ स्पटरिंग के साथ तुलना में, मिड-फ्रीक्वेंसी स्पटरिंग कोटिंग के बड़े पैमाने पर उत्पादन के लिए एक मुख्य पतली फिल्म स्पटरिंग तकनीक बन गई है, विशेष रूप से ऑप्टिकल कोटिंग्स, सौर पैनल, कई परतों जैसी सतहों पर ढांकता हुआ और गैर-प्रवाहकीय फिल्म कोटिंग्स के फिल्म चित्रण के लिए। , समग्र सामग्री फिल्म आदि
यह आरएफ तेजी की जगह ले रहा है क्योंकि यह मेगाहर्ट्ज के बजाय मेगाहर्ट्ज के साथ संचालित होने के कारण बहुत तेजी से डिपोजिट रेट के कारण होता है और डीसी जैसी कंपाउंड पतली फिल्म डिपॉजिट के दौरान टार्ग पॉइजनिंग से भी बच सकता है।

एमएफ स्पटरिंग लक्ष्य हमेशा दो-सेट के साथ मौजूद थे। दो कैथोड का उपयोग उनके बीच पीछे और पीछे एक एसी करंट चालू करने के लिए किया जाता है, जो प्रत्येक उत्क्रमण के साथ लक्ष्य की सतह को साफ करता है, जिससे डाइलेक्ट्रिक्स पर निर्मित आवेश को कम किया जा सकता है, जिससे उत्पन्न होता है जो प्लाज्मा में बूंदों को गिरा सकता है और एक समान फिल्म विकास को रोक सकता है --- जिसे हमने टारगेट पॉइज़निंग कहा है।

एमएफ स्पटरिंग सिस्टम प्रदर्शन
1. परम वैक्यूम दबाव: 5.0 × 10 ^{- 6} टोर से बेहतर।
2. ऑपरेटिंग वैक्यूम प्रेशर: 1.0 × 10 ^{- 4} टॉर।
3. पम्पिंगडाउन समय: 1 बजे से 1.0 × 10 ^{- 4} टोर्र 3 मिनट (कमरे का तापमान, सूखा, साफ और खाली कक्ष)
4. धातु सामग्री (स्पटरिंग + आर्क वाष्पीकरण): नी, सीयू, एजी, एयू, टीआई, जेडआर, सीआर, टीआईएन, टीआईसी, टीआईएएलएन, सीआरएन, सीआरसी, आदि।
5. ऑपरेटिंग मॉडल: पूर्ण स्वचालित / अर्ध-ऑटो / मैन्युअल रूप से

एमएफ स्पटरिंग सिस्टम संरचना
वैक्यूम कोटिंग मशीन में नीचे सूचीबद्ध कुंजी पूर्ण प्रणाली शामिल है:
1. वैक्यूम चैंबर
2. वैक्यूम पंप प्रणाली (समर्थन पंप पैकेज) को बदलना
3. उच्च वैक्यूम पंपिंग सिस्टम (मैग्नेटिकली सस्पेंशन आणविक पंप)
4. इलेक्ट्रिकल कंट्रोल और ऑपरेशन सिस्टम
5. सहायक सुविधा प्रणाली (उप प्रणाली)
6. जमाव प्रणाली: एमएफ स्पैटरिंग कैथोड, एमएफ बिजली की आपूर्ति, वैकल्पिक के लिए बायस पावर सप्लाई आयन स्रोत

एमएफ स्पटरिंग सिस्टम आरटीएसपी 1212-एमएफ विनिर्देशों

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