TiN गोल्ड मेटल मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग मशीन, ZrN गोल्ड प्लेटिंग सर्विस

 
 
टीन सोना धातु मध्य आवृत्ति मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग मशीन / एमएफ स्पटरिंग सिस्टम
 
 
 
मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग वैक्यूम कोटिंग एक प्रकार का पीवीडी आयन प्लेटिंग सतह उपचार तंत्र है। इसका उपयोग कई प्रकार की सामग्रियों पर प्रवाहकीय या गैर प्रवाहकीय फिल्मों के उत्पादन के लिए किया जा सकता हैः धातुओं,ग्लासस्पुटरिंग जमाव की अवधारणाः कोटिंग सामग्री (लक्ष्य, जिसे कैथोड भी कहा जाता है) और काम के टुकड़े (स्तंभों,एनोड भी कहा जाता है) खाली कक्ष में रखा जाता है और दबाव कम हो जाता हैस्पटरिंग को लक्ष्य को एक वोल्टेज अंतर के तहत रखकर आरगोन गैस का परिचय करके आरंभ किया जाता है जो आरगोन आयनों (ग्लू डिस्चार्ज) का गठन करते हैं।आर्गन आयन प्रक्रिया लक्ष्य की ओर तेजी लाने और लक्ष्य परमाणुओं को विस्थापितइन स्पटरिंग परमाणुओं को तब सब्सट्रेट पर घनत्व दिया जाता है और बहुत पतली और उच्च एकरूपता परत बनती है।या कोटिंग प्रक्रिया के दौरान स्पटर गैसों में एसिटाइलिन.
 
मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग मॉडल: डीसी स्पटरिंग, एमएफ स्पटरिंग, आरएफ स्पटरिंग
 
एमएफ स्पटरिंग क्या है?
 
डीसी और आरएफ स्पटरिंग की तुलना में, मिड-फ्रिक्वेन्सी स्पटरिंग कोटिंग के बड़े पैमाने पर उत्पादन के लिए एक मुख्य पतली फिल्म स्पटरिंग तकनीक बन गई है,विशेष रूप से ऑप्टिकल कोटिंग्स जैसी सतहों पर डाइलेक्ट्रिक और गैर-चालक फिल्म कोटिंग्स की फिल्म जमा करने के लिए, सौर पैनल, बहुस्तरीय, कम्पोजिट सामग्री फिल्म आदि।
यह आरएफ स्पटरिंग की जगह ले रहा है क्योंकि यह डीसी जैसे यौगिक पतली फिल्म जमाव के दौरान लक्ष्य विषाक्तता से बचने के लिए बहुत तेज जमाव दर के लिए एमएचजेड के बजाय केएचजेड के साथ संचालित होता है।
 
एमएफ स्पटरिंग लक्ष्य हमेशा दो सेट के साथ मौजूद रहे हैं। Two cathodes are used with an AC current switched back and forth between them which cleans the target surface with each reversal to reduce the charge build up on dielectrics that leads to arcing which can spew droplets into the plasma and prevent uniform thin film growth--- which is what we called Target Poisoning.
 
एमएफ स्पटरिंग सिस्टम का प्रदर्शन
1अंतिम वैक्यूम दबावः 5.0×10 से बेहतर^-6टोर।
2कार्यरत वैक्यूम दबावः 1.0×10^-4टोर।
3पंपडाउन समयः 1 एटीएम से 1.0×10 तक^-4Torr≤ 3 मिनट (कमरे का तापमान, सूखा, साफ और खाली कक्ष)
4धातुकरण सामग्री (स्पटरिंग + आर्क वाष्पीकरण): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrC, आदि।
5ऑपरेटिंग मॉडल: पूर्ण स्वचालित / अर्ध-स्वचालित / मैनुअल
 
एमएफ स्पटरिंग सिस्टम संरचना
वैक्यूम कोटिंग मशीन में नीचे सूचीबद्ध कुंजी पूर्ण प्रणाली होती है:
1वैक्यूम कक्ष
2. खड़ी वैक्यूम पम्पिंग प्रणाली (बैकपम्प पैकेज)
3उच्च वैक्यूम पम्पिंग प्रणाली (चुंबकीय रूप से निलंबन आणविक पंप)
4विद्युत नियंत्रण और संचालन प्रणाली
5सहायक सुविधा प्रणाली (उप-प्रणाली)
6अवशोषण प्रणाली: एमएफ स्पटरिंग कैथोड, एमएफ बिजली की आपूर्ति, वैकल्पिक के लिए पूर्वाग्रह बिजली की आपूर्ति आयन स्रोत
 
एमएफ स्पटरिंग सिस्टम RTSP1212-MF विनिर्देश
 

 
 
 
 
हमारे पास आपके चयन के लिए और मॉडल हैं!


 
 
कृपया अधिक विवरण के लिए हमसे संपर्क करें, रॉयल टेक्नोलॉजी आपको पूर्ण कोटिंग समाधान प्रदान करने के लिए सम्मानित है।